天津储罐清理-科海化工罐处理有保障-储罐清理费用

清洗媒介

湿式清洗和干式清洗

1.一般将在液体介质中进行的清洗称为湿式清洗，传统的清洗方式大多为湿式清洗。

2.在气体介质中进行的清洗称为干式清洗，如激光清洗、紫外线清洗、等离子清洗、干冰清洗等，

缓蚀剂是在腐蚀性介质中，加入少量的某种物质，能使金属的腐蚀速度---降低，这种物质称为缓蚀剂。这种保护金属的方法，称为缓蚀剂保。

化学清洗的重要性

工艺实验中的每个实验都有化学清洗的问题。化学清洗的对实验结果有---影响。如果过程处理不当，将得不到实验结果或实验结果很差。因此，了解化学清洗的作用和原理对工艺实验具有重要意义。众所周知，半导体的重要特性之一是对杂质非常敏感。只要有百万分之一甚至少量的杂质，就会对半导体的物理性能产生影响。方法。各种功能半导体器件的制造。但也正是因为这个特点，给半导体器件的工艺实验带来了麻烦和困难。用于清洁的化学试剂、生产工具和水可能成为有害杂质的来源。即使是干净的半导体晶圆更长时间暴露在空气中也会引入明显的污染物。化学清洗是去除有害杂质，保持硅片表面清洁。